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硅晶圓切割

時(shí)間:2021-03-29   訪問量:4267

硅晶圓切割是半導(dǎo)體芯片封裝的常用加工工藝。激光切割的關(guān)鍵指標(biāo)要求是高速和窄切割線。高頻、高能量的紅外脈沖光纖激光適用于這樣的應(yīng)用。

晶圓的厚度一般不超過250um,激光切割深度一般為晶圓厚度的1/3。

裂片通常是激光切割后的標(biāo)準(zhǔn)必要步驟。

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